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phase vapeur

См. также в других словарях:

  • phase vapeur — garų fazė statusas T sritis fizika atitikmenys: angl. vapor phase; vapour phase vok. dampfförmige Phase, f; Dampfphase, f rus. паровая фаза, f; парообразная фаза, f pranc. phase vapeur, f …   Fizikos terminų žodynas

  • Depot chimique en phase vapeur — Dépôt chimique en phase vapeur Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en… …   Wikipédia en Français

  • Dépôt Chimique En Phase Vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 …   Wikipédia en Français

  • Dépôt chimique en phase vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 …   Wikipédia en Français

  • Épitaxie en phase vapeur aux organométalliques — L épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (EPVOM) est une technique de croissance cristalline dans laquelle les éléments à déposer, sous forme d organométalliques ou d hydrures, sont amenés vers le substrat par un gaz vecteur. Cette… …   Wikipédia en Français

  • Depot physique par phase vapeur — Dépôt physique par phase vapeur Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de Dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en… …   Wikipédia en Français

  • Dépôt Physique Par Phase Vapeur — Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de Dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l… …   Wikipédia en Français

  • Dépôt physique en phase vapeur — Dépôt physique par phase vapeur Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de Dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en… …   Wikipédia en Français

  • Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma — Equipement de PECVD. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD, pour Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat à partir d un état gazeux… …   Wikipédia en Français

  • Dépôt physique par phase vapeur — Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l… …   Wikipédia en Français

  • déposition chimique en phase vapeur — cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur,… …   Radioelektronikos terminų žodynas

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